KESAN ANTARAMUKA OKSIDA-SILIKON

Pertumbuhan lapisan oksida terma memberikan kesan pada antaramuka Silikon Dioksida dan silikon kerana ini akan mempengaruhi prestasi peranti yang akan difabrikasikan.

Taburan Dopan

Apabila antaramuka terbentuk, taburan dopan atom dopan di dalam silikon yang berhampiran dengan antaramuka akan mengatur semula sehingga keupayaan kimia pada kedua-dua bahagian silikon seimbang dengan keupayaan kimia pada SiO . Sebahagian atom dopan akan berpindah ke lapisan oksida seperti pada Rajah 9. Ini menghasilkan keadaan di mana kepekatan dopan yang terherot di sepanjang antaramuka. Nisbah kepekatan dopan seimbang di dalam silikon berbanding dengan kepekatan dopan di dalam Silikon Dioksida pada antaramuka disebut koefisen segragasi seimbang, m.

Faktor lain yang turut mempengaruhi proses pengaturan semula taburan dopan ialah keresapan atom dopan tersebut di dalam oksida dan kadar di mana satah antaramuka bergerak terhadap kadar resapan.

Rajah 9 : Dopan bergerak ke lapisan oksida